廢ITO靶材回收的核心挑戰(zhàn)在于：

成分復雜：除In?O?、SnO?外，含粘結劑、金屬背板（銅/鉬）等。

高純度要求：再生銦純度需達99.99%以上，雜質(zhì)含量需嚴格控制在ppm級，否則影響新靶材性能。

銦錫分離：分離銦錫是實現(xiàn)價值化的關鍵。

閉環(huán)工藝：價值再造的精益之路

閉環(huán)回收帶來的不僅是環(huán)保效益：

供應鏈：降低對原生銦礦進口依賴，抵御價格波動風險。

顯著降本：再生銦成本可低于原生銦30%以上，靶材企業(yè)毛利率提升。

品牌增值：滿足蘋果、三星等巨頭對再生材料比例的硬性要求。

技術壁壘：分離提純工藝構成核心競爭力。

ITO（氧化銦錫，Indium Tin Oxide）靶材廣泛應用于液晶顯示器、觸摸屏、太陽能電池等行業(yè)。隨著ITO靶材的廣泛使用，其回收再利用成為降低成本、減少資源浪費、保護環(huán)境的重要環(huán)節(jié)。

ITO靶材主流回收技術：

機械物理分離：適合較厚靶層，回收效率高。

濕法化學回收：利用酸堿進行溶解分離，適合大批量廢靶材。

熱處理工藝：部分回收方案采用高溫分離，能耗較大。