一． 設備簡介

半導體超純水設備是應用于半導體生產(chǎn)零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質(zhì)標準,半導體超純水設備出水水質(zhì)要符合美國ASTM純水水質(zhì)標準、中國電子工業(yè)電子級水質(zhì)技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半導體工業(yè)用純水指標、集成電路水質(zhì)標準。榮大環(huán)保在滿足用戶用水標準的基礎上，在設備系統(tǒng)中水箱均設有液位控制系統(tǒng)、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求的方法，使設備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

二． 設計標準及依據(jù)

1.根據(jù)用戶提供的詳細水質(zhì)報告“量身定制”。

2.水處理設備技術條件《JB/T 2932-1999》

3.反滲透水處理設備標準《CJ/T119-2000》

4.低壓開關設備和控制設備成套裝置《IEC439-1》

5.實驗室超純水技術指標標準《GB6682-2008》

6.電子級超純水規(guī)格《GB/T11446.1-1997》